総負荷抵抗 | 棚板耐荷重 (棚板荷重含) |
槽内床面耐荷重 | 内寸 (W x H x D) |
勾配レート | 範囲 |
---|---|---|---|---|---|
- | - | - | 600 x 600 x 600 mm | atmospheric pressure to 133 PA Within 15 min Inlet open to atmosphere Within 8 min |
温度 : +40°C to +200°C Pressure : 933 x 102 Pa to 1 x 102 Pa |
扉ロックや函体構造変更、断熱材の改善などにより、槽内の密閉性と断熱性を向上させることで、消費電力を低減させました。 密閉性と断熱性は、温度制御だけでなく圧力制御にも大きく影響を与え、VAC-101では最大40%の省エネを達成いたしました。 また、密閉性が優れたことにより設置環境への温度上昇も防ぐことができました。
真空環境(低圧環境)では沸点が下がり、低い温度での乾燥が行えます。これにより高温乾燥ができなかった試料へも、真空乾燥により低い温度での乾燥処理が行えるようになりました。 さらに、真空やN2ガス置換により酸化を嫌う試料の乾燥・熱処理やガス置換を繰り返すことで槽内の不純物をなくし、クリーン環境での乾燥・熱処理も行えます。
LEDの生産工程における樹脂液混合時やシリコンゴム材液混合時の脱泡処理、さまざまな樹脂成形時の脱気処理、ハイブリッドICのエポキシ注入時の硬化処理、電子部品の洗浄後の乾燥など、電子部品の生産工程を中心に幅広い用途で活躍します
真空容器の内側にさらに内槽を設けた二重構造。内槽の外周面にヒーターを設置することでヒートロスを少なくし、温度分布性能を向上。
※観測窓、非常停止スイッチはオプションです。
5つの運転モードで圧力を制御でき、温度の定値運転とプログラム運転との組合せで様々なプログラムを作成できます。 40パターンの設定ができ、1パターンに99ステップまでのプログラム運転が行えます。
N2ガスを置換することで、槽内の酸素を除去できるため乾燥中の酸化を防止できます。さらに、置換を繰り返すことにより高精度な環境をつくりだせます。 酸化の防止以外にも有機物の除去も行え、試料への影響を少なくできます。
圧力操作により圧力の上昇・下降を6段階で制御でき、一度行った操作をそのまま記憶し、2回目以降の処理にはそれを呼び出すだけで正確に操作を実行します。このエキスパートモードは従来のような処理毎のわずらわしいバルブ操作を不要にし、同一試料の繰り返し大量処理に大きな威力を発揮します。
圧力運転モード選択
観測窓には外部からの映り込みをなくすため、ゆるやかな角度をつけています。
機械安全(ISO 12100)、低電圧(IEC 60204)、EMC(EN 61000-6-2、55011)に対応しています。さらに、RoHS指令にも適合しています。
槽内(棚板、ハーメチック端子はオプションです)
観測窓(オプション)